GISAXS 2.0研究纳米结构表面和薄膜样品
通过 GISAXS 测量,您可以获得面积较大样品的典型纳米结构表面信息。GISAXS 几乎不需要提前制备样品,可在真空和受控环境条件(空气、惰性气体)下进行样品测量。安东帕 GISAXS 2.0 是一个高精度自动化平台。您可以在 -150 °C 至 500 °C 的温度范围内倾斜、旋转和研究样品。
自动化 GISAXS 2.0 可快速精确地进行掠入射研究
安东帕 SAXS 系统,SAXSpoint 5.0 和 SAXSpace 可配备高分辨率 GISAXS 2.0,以进行 GISAXS/GIWAXS/GIXD(掠入射 SAXS/WAXS/衍射)研究。可在 X、Y、Z 方向上精确定位。利用集成式 旋转器,可沿着 轴倾斜和旋转样品,旋转重复性为 0.001°。
安东帕 GISAXS 2.0 是表征介孔薄膜、表面沉积的纳米颗粒、氧化物表面的金属沉淀物以及软物质体系(如聚合物/嵌段共聚物薄膜和附在表面的生物材料)等的最佳环境。
GISAXS 加热模块 2.0 可扩展测量功能
如果 GISAXS 2.0 配备了 GISAXS 加热模块 2.0,就可以用于高达 500 °C 的温度环境。该模块配有一个样品隔离外壳,这样您就可以在室温环境和非室温环境条件(如空气或惰性气体)以及真空下测量样品。
低至 -150 °C 的低温 GISAXS 实验
GISAXS 2.0 的加热 /Cryo 模块支持 -150 °C 至 350 °C 温度范围,可轻松安装到 GISAXS 2.0 上,并确保较高的样品表面温度均匀性,这样您就可以优化 GISAXS/GIWAXS 研究。SAXS 设备可在插入样品台后自动识别样品台。
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