Monowave 400 为微波合成研究提供了一个全新和先进的工具

Monowave 400 为微波合成研究提供了一个全新和先进的工具，使微波合成达到了前所未有的可靠性和性能。

Monowave 400提供300℃和30 bar(435psi)的单模微波工作温度和压力，为合成方法开发和反应优化提供了全新空间。

Monowave 400微波场密度保证了在任何反应体积、任何反应溶剂都能得到可重复的和出色的加热速率，无需使用任何辅助加热元件。先进的红宝石晶体发光光纤传感器保证了实时的反馈控制，同时也实现了高精度的温度测量。

超乎想象

Monowave 400可以使您能在以前不可能达到的条件下使用某些试剂和溶剂。使您能突破常规单模合成的限制进行方法的开发，来研究温度和压力的提高对反应活性和反应过程的影响。

就利用Monowave 400的高效搅拌和标准内置温度测量来试一下您的微波反应。纸上没有吹嘘，但是终究百闻不如一见。

您能感受到的独特优势:

快速和一致的加热

方便内部温度测量

高准确性和再现性

新方法开发的新空间

强力的搅拌有助益混合

用户友好的智能软件

内置8.4’’触摸屏控制器

满足多领域的应用的伙伴

制药研究：

方法开发和优化

构建单元合成

中间体修饰和骨架分子修饰

有机化学:

杂环合成

金属催化

键形成反应

缩合反应

加环反应

固相合成

生物医药:

衍生反应

多肽合成

材料化学:

纳米颗粒制备

分子筛合成

高分子材料合成

技术参数：

--实现高的单模合成条件：300oC和30 bar(435psi)

--850W连续非脉冲微波

--微波场密度

--超常的加热速度(3-9oC/秒)

--0~1200rpm连续可调的高效磁力搅拌

--自动调谐微波腔保证不同体积和极性的溶剂的高效加热

--仪器内置摄像头，通过显示屏直观观察反应管内部状况

--满足21CFR Part11 要求

--反应时间高达100小时

主要特点：

--- 全面反应控制记录

内置液压传感器使反应范围更广

内置红外温度传感器进行常规温度测量

先进的光纤温度传感器实现对内部反应温度的精确控制

自动式气动控制过压安全释放功能

30mL碳化硅管，快速加热非极性溶剂

850W，更高的功率，更快的加热速率

--- 8.4英寸触摸屏控制系统

全新智能控制软件，具有逻辑触摸屏导航

明亮的大控制图标使操作简单容易

不同操作者设定不同控制权限

内置AFAP快速加热模式或自己设定多步反应程序

重要样品可设定优先排队选项

---- 完整的数据管理

彩色反应曲线图同时显示所有相关参数

局部放大功能进行可获得更详细信息

方法库可存1000个方法

可通过USB进行数据导出

直接生成pdf格式的反应报告

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