新的印刷技术出现摩尔定律依然活着
2008/10/15 9:36:52
光刻技术的发展是摩尔定律继续成立的原动力。更短的波长,更好的晶状体,直接促进了45纳米商用芯片的发布,而且32mn制程也在测试中,你或许会对此感到惊讶,但是毫无疑问,它不会停留在此水平,而是会继续向前发展。昨天科学家发布了新的无掩膜平板印刷技术,这可能是制造小于32nm制程芯片的关键。
传统的光刻技术采用负极掩模成像蚀刻在芯片上,但是这种技术成本高,而且研发时间长,对精度要求很高。你可想像这是需要很高的研发成本的,也可能是拖慢电路发展的一个因素。
新的无掩膜平板印刷技术可以绕过以上的难题,他采用光束和电子的作用产生的等离子体激元来完成的。光促使电子摆动,然后形成很多大的电场和光场,并在晶体上面产生一系列金属环,进而形成可以聚焦的光点进行蚀刻。
理论 上使用该技术可以制造出5-10nm的芯片,但是实际上只能形成20纳米的等离子光束,看来还是有很长的一段路要走。

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