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凯福 | 半导体清洗段案例分析

凯福 | 半导体清洗段案例分析

【应用案例】

半导体行业EtherCAT总线驱控一体转台应用


凯福科技针对单晶硅片制造清洗工艺提出了驱动器+一体式旋转平台的方案。具有速度波动平稳,体积尺寸小等特点。


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作为半导体制造工艺中的重要一环,单晶硅硅片制造工艺尤为重要。多晶硅片经过切片、倒角、研磨、表面处理、抛光、外延等不同工序加工后,表面已经受到严重的玷污,因此有一个很重要的工艺段便是清洗,其目的就是为了去除硅片表面颗粒、金属离子以及有机物等污染。

凯福科技针对单晶硅片制造清洗工艺提出了SSDC集成式EtherCAT总线驱动器+YKW系列一体式转台的方案。具有尺寸更小,速度波动平稳等特点。


工艺流程图

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案例展示

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方案优势

驱控一体尺寸更小

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速度更稳

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李娜
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